納米壓印技術(shù)是上世紀90年代Stephen Y Chou,針對傳統(tǒng)光刻受波長限制提出的類似于模板刻印的一種技術(shù)。
納米壓印機是一種非常靈活的壓印設(shè)備。它可提供加熱型納米壓印、UV紫外納米壓印以及真空納米壓印。模塊化系統(tǒng)可根據(jù)特定需求輕松配置,體積小,容易存放,大可處理210mm圓形的任何尺寸印章和基材。該系統(tǒng)是手動裝卸印章和模板,但所有處理器都是全自動的,軟件用戶可以*控制壓印過程。
它的原理是:
將具有納米結(jié)構(gòu)的模板通過一定壓力,壓入加熱的熔融的高分子薄膜內(nèi),待高分子材料冷卻,納米結(jié)構(gòu)定型,移去模板,然后再通過等離子體刻蝕等傳統(tǒng)的微電子加工手段把結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到基底上。
納米壓印機擁有以下優(yōu)勢:
1、分辨率優(yōu)于10μm,產(chǎn)率優(yōu)于99%;
2、同時適用于軟模和剛性模板;
3、自動脫模,防止模板和基板損壞;
4、可壓印不同尺寸的模板和基片,方便靈活;
5、可編程的PLC觸屏界面;
6、對準選項。
可支持壓印工藝:
1、納米壓印模板自動脫離工藝-減少納米壓印結(jié)構(gòu)缺陷;
2、納米壓印膠點膠裝置-可過濾0.20um的雜質(zhì),保證壓印效果;
3、納米壓印單層壓印工藝-適合刻蝕(etching)工藝;
4、納米壓印雙層壓印工藝-適合剝離(lift-off)工藝;
5、納米壓印程序設(shè)定及優(yōu)化工藝-可掌握納米壓印關(guān)鍵技巧;
6、納米壓印模板抗粘層處理及材料-可對模板進行抗粘層處理;
7、納米壓印模板復制工藝-可完成復制母版工藝;
8、納米壓印快速模板轉(zhuǎn)換工藝-可使用硅模板簡單轉(zhuǎn)化并實現(xiàn)UV壓印工藝;
9、納米壓印軟膜壓印工藝-提供完整的軟膜壓印工藝,可完成曲面壓印并減少壓印結(jié)構(gòu)缺陷。